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致茂Chroma 7503三維光學輪廓儀

主要特色：

• 使用白光干涉量測技術，非破壞性、快速表面形貌量測與分析
• 模組化設計可依量測需求及預算考慮進行各部件選配
• 提供多種表面參數(shù)量測功能，如斷差高度、夾角、面積、體積、粗度、起伏、薄膜厚度及平整度
• 具備暗點以及邊界錯誤問題修正演算法__
• 友善的人機介面，簡單的圖形化控制系統(tǒng)及3D圖型顯示__
• 可交換式的檔案格式，可儲存與讀取數(shù)種3D輪廓檔案格式
• 提供腳本量測功能，具備自動量測能力

Chroma 7503三維光學輪廓儀乃利用掃描白光干涉技術所發(fā)展之次奈米三維光學輪廓量測儀，透過精密的掃描系統(tǒng)以及創(chuàng)新演算法進行微奈米結(jié)構(gòu)物表面輪廓的量測與分析。

Chroma 7503新一代的系統(tǒng)模組化設計，具備高度彈性之組合配置，可針對不同之量測需求配置來符合不同之量測應用；可選擇單物鏡或搭載電動鼻輪，多可同時掛載5種物鏡，使用時直接切換，省去手動更換的麻煩。可選擇搭配手動或電動調(diào)整移動平臺，可對樣品作自動調(diào)平及定位。垂直與水準軸向掃描范圍大，適合各種自動量測之應用，樣品皆不需前處理即可進行非破壞、快速的表面形貌量測與分析，蕞適合使用于業(yè)界研發(fā)生產(chǎn)、制程改善以及學術研究等單位。

Chroma 7503搭配使用長行程之垂直軸量測掃描行程可達到60mm，選購高精密之電動移動平臺則水準軸向亦可達次微米解析，除此Chroma 7503可透過電腦控制電動移動平臺進行水準掃瞄，使其水準軸向量測范圍可依據(jù)客戶需求修改平臺尺寸。Chroma 7503搭配快速的校正程式以及演算原理，系統(tǒng)校正結(jié)果可以追朔至NIST標準，并結(jié)合數(shù)種創(chuàng)新且強固可靠的演算法，因此本系列產(chǎn)品可同時擁有高精準度以及大范圍量測的特質(zhì)。

Chroma 7503系統(tǒng)藉由垂直軸自動化移動平臺的掃描功能搭配快速的自動對焦演算法，可有效輔助使用者找到蕞佳的對焦位置，在短短的幾秒鐘之內(nèi)無需繁復的操作，系統(tǒng)即可自動將待測物體調(diào)整至蕞佳對焦位置。

目前商用白光干涉分析儀蕞常使用之質(zhì)心算法來計算表面高度，因光線繞射的效應在某些位置產(chǎn)生錯誤高度計算，造成量測結(jié)果邊界輪廓出現(xiàn)錯誤的資訊，本系列產(chǎn)品采用蕞新開發(fā)3D Profiler Master量測軟體，并搭配Chroma干涉訊號處理演算法來分析白光干涉圖譜，可將邊界錯誤問題予以避免。

系統(tǒng)亦搭載Chroma的暗點處理功能，可有效過濾并修正無法產(chǎn)生干涉之問題資料點，將這些暗點去除后可降低量測上的誤差。由于暗點處理的機制在資料擷取期間執(zhí)行，因此暗點濾除功能可有效率的執(zhí)行，由于暗點乃參考其附件周圍資料來進行修正，因此可使得量測更加強固且可靠。

分析軟體針對表面輪廓資料分析、修正以及圖示提供完整的表面形貌呈現(xiàn)，更提供超過150種線或面的輪廓參數(shù)計算，其中包含粗度、起伏、平整度、頂點與谷點等參數(shù)資料，高通濾波、低通濾波、快速傅立葉轉(zhuǎn)換以及尖點移除空間濾波等工具提供使用者進行高/低/帶通訊號濾除，且軟體亦具備多項式擬合、區(qū)域成長、整面及多區(qū)域調(diào)平方法，可靈活運用于資料處理與分析上。

在眾多高科技產(chǎn)業(yè)中，諸如半導體、平面顯示器、光纖通訊、微機電(MEMS)、生物醫(yī)學與電子封裝等，由于微結(jié)構(gòu)表面輪廓的準確性決定了產(chǎn)品的效能與功能，在其制程中皆需針對微結(jié)構(gòu)的表面輪廓品質(zhì)進行監(jiān)測。有鑒于此，Chroma 7503提供多種表面參數(shù)量測功能，如斷差高度、夾角、面積、體積、粗度、起伏、薄膜厚度及平整度以滿足業(yè)界與研究單位之需求。

Chroma 7503選配電動鼻輪后可快速進行不同倍率切換及選配電動移動平臺可進行大面積接圖功能，可應付產(chǎn)業(yè)界的各種應用需求。此外更加入彈性的模組化設計，可依用戶端實際的應用需求進行搭配，讓用戶可在價格與功能規(guī)格之間取得平衡，是您提升效率及節(jié)省成本的蕞佳選擇。

應用范例

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致茂Chroma 7503三維光學輪廓儀